Модель: Hика-2012
Производитель: ООО Лаборатория вакуумных технологий плюс (ЛВТ+, Beams&Plasmas)
Год выпуска: 2014
Страна: Россия
Сертификат: Есть
Уникальная научная установка (УНУ) на базе комплекса технологических установок Ника-2012 представляет собой вакуумную камеру с встроенными двумя фланцами под вакуумно-дуговые испарители и под магнетронные испарители. УНУ оснащена двумя магнетронами (диаметром 100 мм) и двумя дуговыми источниками с сепарацией плазменного потока (диаметром 70 мм) предназначенными для напыления пленок произвольного состава (металлы, диэлектрики, полупроводники) на подложки размером до 100 мм. В установке использована сухая откачка форвакуумным насосом ANEST IWATA и турбомолекулярным насосом на магнитном подвесе фирмы SHIMADZU. В состав установки также входит высокочастотный генератор плазмы РПГ-128 для создания плотной низкотемпературной плазмы — универсальной технологической среды для ионно-плазменной обработки поверхности, азотирования и карбонитрирования, ионного ассистирования; осаждения материалов в ионизованном состоянии, плазмохимического травления и осаждения. Ионные источники с холодным катодом, обеспечивают линейную плотность тока до 25 мА/см длины рабочей зоны. Установка оснащена ионным источником и радиочастотным генератором плазмы. 5 газовых вводов с автоматической регулировкой протока каждого газа позволяют подавать газы или их смеси как через ионный источник, так и непосредственно в камеру. К установке подключены следующие газы Ar, He, N, ацетилен, а также генераторы водорода и кислорода. Камера оснащена водоохлаждаемым устройством вращения, которое с помощью управляемых компьютером шаговых двигателей позволяет как перемещать образцы между различными испарителями, так и осуществлять непрерывное вращение с регулируемой скоростью, что позволяет напылять многокомпонентные и многослойные покрытия. На устройство вращения может быть подан потенциал до 800 В любого знака. Радиочастотный генератор плазмы позволяет получить газовую плазму высокой плотности (любой газ или смесь газов) (международный патент), что позволяет с одной стороны легко нагревать образцы до температуры 1000 С (температуру можно контролировать пирометром, встроенным в корпус камеры), с другой стороны обеспечивать ионизацию газовой среды внутри камеры. Этот генератор плазмы может прекрасно работать в паре с магнетронным и дуговым испарителями. Благодаря этому при магнетронном напылении достигается степень ионизации не ниже, если даже не выше, чем при вакуумно-дуговом напылении, что является уникальным для подобного рода установок. Использование РПГ (радиочастотный плазменный генератор) позволяет высоко эффективно внедрять атомы газов в матрицу обрабатываемых материалов, что позволяет чрезвычайно эффективно азотировать, наводораживать и науглероживать приповерхностные слои металлов и сплавов, обеспечивая рекордные скорости этих процессов. Необычайно эффективно по сравнению с другими установками осуществляется плазменное травление и очистка поверхности благодаря рекордно высокой плотности плазмы. Данная установка, не смотря на ее компактность (это лабораторная установка с камерой объемом около 0,3 кубических метра) по своим параметрам и функциональным возможностям является уникальной и не имеет аналогов за рубежом.
Направления научных исследований, проводимых на УНУ:
- разработка и получение сложных многокомпонентных, многослойных покрытий;
- азотирование, науглероживание, карбо-азотирование сталей и сплавов, селективное ионное травление, а также реактивное ионное травление материалов с перспективой их применения в обрабатывающей промышленности, электронике, медицине, в аэрокосмической промышленности.