Модель: Hика-2012
Производитель: ООО Лаборатория вакуумных технологий плюс (ЛВТ+, Beams&Plasmas)
Год выпуска: 2014
Страна: Россия
Сертификат: Есть
Комплекс технологических установок на базе НИКА-2012 оснащен двумя магнетронами (диаметром 100 мм) и двумя дуговыми источниками с сепарацией плазменного потока (диаметром 70 мм) предназначенными для напыления пленок произвольного состава (металлы, диэлектрики, полупроводники) на подложки размером до 100 мм. В установке использована сухая откачка форвакуумным насосом ANEST IWATA и турбомолекулярным насосом на магнитном подвесе фирмы SHIMADZU. В состав установки также входит высокочастотный генератор плазмы РПГ-128 для создания плотной низкотемпературной плазмы — универсальной технологической среды для ионно-плазменной обработки поверхности, азотирования и карбонитрирования, ионного ассистирования; осаждения материалов в ионизованном состоянии, плазмохимического травления и осаждения. Ионные источники с холодным катодом, обеспечивает линейную плотность тока до 25 мА/см длины рабочей зоны.